研究設備

1650 nmまでの近赤外領域測定、高感度測定（低量子収率の評価）、
アップコンバージョン発光測定が可能です。

励起光源は、高出力キセノンランプ、

ダイオードレーザー（980・793・630nm）を選択できます。

波長領域380 nm ～ 1030 nm、サブナノ秒～ミリ秒の

蛍光寿命を測定できます。

固体、薄膜、粉体での測定が可能です。

new!!　アップコンバージョン評価システム

980nmおよび808nmレーザーを集光し（ミラーで波長切り替え）、

アップコンバージョン材料に照射します。

小型分光器でスペクトルと強度を測定します。

new!!　インクジェット吐出実験装置

吐出液滴を観察しながら、ペロブスカイト前駆体溶液などを

高精度に吐出・パターニングすることができます。

結晶膜を用いたデバイスの試作が可能です。 

光照射下での測定や微小電流、表面電位（KFM）測定も可能です。

new!! デスクトップＸ線回折装置（MiniFlex）

高速１次元検出器D/teX Ultra2を用いた薄膜や粉末試料の測定が可能です。

new!! センサーガスクロマトグラフ

水素を10ppbから高感度に検出・定量することができます。

エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析装置（EDX-7200）

軽元素の高感度測定（真空測定）や微量分析が可能です。

 紫外可視分光光度計（UV-2600）

積分球ユニットを用いた固体測定や直線偏光吸収測定も可能です。

分光蛍光光度計（FP-8600）

測定波長範囲（200－1010nm）、直線偏光発光、

液体窒素温度での測定が可能です。

赤外分光光度計（FT-IR/4600）

ATR（全反射吸収測定）、RAS（高感度反射測定、偏光対応）、

拡散反射測定が可能です。

微小電流高速光応答測定システム

プログラマブル電流増幅器（CA5350）、

ライトチョッパ（4Hz～4kHz）、オシロスコープを

用いて微小電流の高速光応答を計測できます。

光照射型マニュアルプローバー

円偏光やモノクロメータ式キセノン光源（MAX-350）

を裏面から照射できます（照射波長：385-1050nm）。

微弱な光照射下での、電流電圧測定が可能です。

半導体レーザー光を直線偏光子・λ/4波長板により円偏光に変換し、

裏面からデバイスに照射できます。8素子の連続測定が可能です。

動的光散乱法 (DLS)による粒子径計測が可能です。

また、電気泳動光散乱法によるゼータ電位測定を行うことができます。 

クリーンかつ湿度20％以下の環境で、薄膜材料やデバイスを安定的に作製・評価することができます。

真空蒸着装置（抵抗加熱式、SVC-700TMSG/7PS800E）

金属（電極）蒸着のほか、有機物の蒸着も可能です。

スピンコーター（MS-A100 ）

UVオゾン処理装置